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장비 사업

식각 분석 장비

Hybrid Ion Mill System

Hybrid Ion Mill System 은 반도체 부품의 단면이나 평면을 가공하여 거친 표면을 선명하게 만들어 좀 더 정확한 분석이 가능하게 할 수 있는 시료 전처리 장비입니다.
Ar Gas 를 사용한 Ion Beam 을 시료 단면이나 표면에 주사하여 식각하고, 단면분석 시편제작 과정 중 발생되는 스크래치 등의 연마 흔적들을 제거하여 불량 및 구조에 대한 정확한 분석을
가능하게 해줄 뿐 아니라 Delayer 시편제작 공정에 적용하여 특정 위치의 평면분석이 가능한 장비입니다.

장비

  • 특징
    제작사 및 장비명
    Knal Inc. | Hybrid Ion Mill System
    APPLICATIONS
    - Failure Analysis (Flat Mill, CP, De-layer)
    Surface or cross section etching
    FEATURES
    - X, Y, and Z axis controls
    - Surface milling and cross section milling
    - One stop sample inspeciton
    - PC control and data save

기술 및 서비스 문의

  • 전략기획실 비즈니스 마케팅 곽종철 실장
    Tel. 031-283-9676
    E-mail. Jongcheol.kwak@knal.co.kr